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  • GMSD2000/4實驗室疫苗超細納米分散機均質(zhì)機
    實驗室疫苗超細納米分散機均質(zhì)機

    實驗室疫苗超細納米分散機均質(zhì)機,是上海SGN研制的超高速分散均質(zhì)設(shè)備,采用德國進口的316L高精度磨頭與分散盤,搭載德國博格曼碳化硅與哈氏合金機械密封,通過世界*電機ABB的動力傳輸,實現(xiàn)14000RPM的超高速剪切與分散。實驗證明其效率可以與APV高壓均質(zhì)機800bar時效果相媲美。

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  • GMSD2000*的頭孢噻呋膠體磨研磨分散設(shè)備
    *的頭孢噻呋膠體磨研磨分散設(shè)備

    *的頭孢噻呋膠體磨研磨分散設(shè)備,頭孢噻呋注射液研磨分散機 是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。 *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。 第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同。

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  • GMSD2000SGN羥丙甲纖維素高效研磨分散機
    SGN羥丙甲纖維素高效研磨分散機

    SGN羥丙甲纖維素高效研磨分散機的工作原理:由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

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  • GMSD2000SGN脫模劑研磨分散機
    SGN脫模劑研磨分散機

    SGN脫模劑研磨分散機,上海SGN研磨分散機可以先將物料充分細化,然后進行均質(zhì)乳化。根據(jù)客戶反映脫模劑研磨的越細物料越稀,在思峻現(xiàn)場客戶實驗,研磨后的狀態(tài)比研磨前的狀態(tài)更加細膩、產(chǎn)品更稀。

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  • GMSD2000SGN氮化物研磨分散機
    SGN氮化物研磨分散機

    SGN氮化物研磨分散機,SGN納米氫氧化鎂研磨式分散機,是由膠體磨+高剪切分散機組成,形成一體化的設(shè)備,先研磨后分散,避免物料團聚。

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  • GMSD2000/4高品相鎳粉高剪切研磨分散設(shè)備
    高品相鎳粉高剪切研磨分散設(shè)備

    GMSD2000系列高品相鎳粉高剪切研磨分散設(shè)備是SGN公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換。

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  • GMSD2000/4光敏涂料分散機
    光敏涂料分散機

    光敏涂料分散機的特點: ①定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。 ②齒列的深度:從開始的2.7mm 到末端的0.7mm,范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。 ③溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

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  • GMSD2000/4氧化鋯漿料超高速剪切分散機
    氧化鋯漿料超高速剪切分散機

    氧化鋯漿料超高速剪切分散機的定轉(zhuǎn)子間隙一般為0.2-0.3mm,而普通乳化機一般為0.5-0.7mm,SGN定轉(zhuǎn)子更加精密,對于物料的細化效果更好。另外,SGN乳化機配置三組定轉(zhuǎn)子,物料通過工作腔體,相當(dāng)于被剪切處理了3遍,乳化分散均質(zhì)更*。

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