GMD2000沉淀活性二氧化硅研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
產(chǎn)品關鍵詞概述：沉淀活性二氧化硅研磨分散機，疏水活性白炭黑研磨分散機，高速研磨分散機，高剪切研磨分散，研磨均質一體機，分體式研磨分散機
沉淀（活性）二氧化硅=疏水（活性）白炭黑
產(chǎn)品特性：
疏水白碳黑是一種多孔性無定型二氧化硅，呈白色粉末狀，其初生粒徑為納米顆粒，zui細之產(chǎn)品如SH-107的zui終粒徑2～3um，它和橡膠、塑料、涂料混和后，能使產(chǎn)品具有各種良好的物理性能，它作為天然橡膠及人造橡膠淺色制品的良好填充劑，一方面減少橡膠的用量，降低成本，另一方面能提高橡膠制品的硬度，耐磨性，減少變形，增加耐油性；用于乳膠塑料皮革，輕質材料制品中，則易于脫膜和成型，減輕制品的重量；用于電線電纜中，能提高其絕緣性能；用于油漆油墨中，則是良好的增稠劑；用于涂料則具有耐高溫性能，因而本品被廣泛用于橡膠、塑料、制革、油漆、體育文化用品等行業(yè)。
（價格電議：葛 公司有樣機可供客戶實驗?。?/span>
應用領域：
疏水白炭黑具有*的表面活性，在某些橡膠制品中具有透明、半透明性質；特別適宜做淺色、艷色、透明、半透明橡膠制品。此外，可作為乳膠的隔離劑、油漆油墨的防沉劑、增稠劑、觸變劑，各種塑料薄膜的張口劑；農(nóng)藥顆粒劑、分散劑；粘合劑材料和輕質材料制品以及牙膏磨料等，并可用于中高檔原子灰系列產(chǎn)品。
技術指標：
項 目 | 指 標 |
二氧化硅含量% ≥ | 99 |
白度 | 95 |
篩余物(45um)%≤ | 0.5 |
加熱減量% | 4.0-8.0 |
灼燒減量(1000℃)% ≤ | 5.0 |
PH值（10%水懸浮液） | 5.0-8.0 |
視比重（1000轉/分.20分鐘）(g/mL) ≤ | 0.24 |
比表面積(m2/g) | 125-210（400目的為125；800目的為175；1250目的為185；6000目的為210） |
表面改性處理 | 根據(jù)客戶的需要
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上海思峻研發(fā)的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。是將SGN/思峻膠體磨進行進一步的改良，在原來GM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。
GMD2000沉淀活性二氧化硅研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
GMD2000有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。
研磨分散機的特點：
1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨
2、 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
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GMD2000系列研磨分散機設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節(jié)到zui大允許量的10%。
產(chǎn)品相關關鍵字： 沉淀活性研磨分散機 二氧化硅研磨分散機 活性二氧化硅研磨機 疏水活性白炭黑研磨機 分體式研磨分散機
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